電子束光刻原理
?設(shè)計部門創(chuàng)建的圖案也稱為CAD數(shù)據(jù)或流數(shù)據(jù)，是獨立于繪圖設(shè)備的格式數(shù)據(jù)。將這些數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為各個繪圖設(shè)備所需的格式以便處理的過程稱為EB轉(zhuǎn)換，經(jīng)過EB轉(zhuǎn)換的圖案數(shù)據(jù)稱為EB數(shù)據(jù)。
在電子束光刻系統(tǒng)中，毛坯被放置在一個精密的XY平臺上，隨著平臺的移動，電子束根據(jù)電子束數(shù)據(jù)照射到圖案的位置。電子束從電子槍發(fā)射，穿過光圈時會形成精確的形狀。毛坯上的電子束光刻膠分子在電子束照射到的地方被切割或聚合。
圖案化完成后，經(jīng)過顯影、蝕刻、去除剩余光刻膠膜等光刻工藝，成為光掩模。