電子束光刻設備的應用
?電子束光刻系統(tǒng)用于在光掩模制造過程中在空白板上繪制電路圖案，也用于制造MEMS等納米技術產(chǎn)品。在LSI制造過程中，掩模制造將設計過程中創(chuàng)建的電子文件上的圖案數(shù)據(jù)轉換為光掩模上的實際圖案。
通過在玻璃板上形成一層薄薄的金屬膜（例如鉻），并在其上涂上對電子束敏感的電子束光刻膠，即可制作出空白版。使用電子束光刻系統(tǒng)，根據(jù)圖案數(shù)據(jù)，用電子束照射空白版，電子束光刻膠分子會被切割或聚合，從而形成圖案。
此外，對于一些開發(fā)應用，電子束光刻系統(tǒng)用于將圖案直接寫入晶圓上而無需使用光掩模，因為電子束的波長比激光的波長短得多，從而可以實現(xiàn)更高的分辨率。