什么是電子束光刻系統(tǒng)
?電子束曝光設(shè)備是用于制造半導(dǎo)體光掩模時(shí)利用電子束在光掩模坯料（以下簡(jiǎn)稱坯料）上繪制電路圖案的設(shè)備。
在制造存儲(chǔ)器、CPU等LSI時(shí)，需要使用由數(shù)十層構(gòu)成的光掩模作為底板，通過(guò)曝光裝置將光掩模上的圖案轉(zhuǎn)移到晶圓上，從而制作電路。
光掩模的質(zhì)量對(duì)LSI的成品率影響最大，因此繪制光掩模圖形的電子束光刻系統(tǒng)可以說(shuō)是LSI制造中最重要的設(shè)備之一。