讓光刻變得更容易！
?半導(dǎo)體曾被稱為“工業(yè)之米”。支持半導(dǎo)體工藝的技術(shù)
是“光刻”。隨著時(shí)間的推移，需要光刻技術(shù)的領(lǐng)域不斷擴(kuò)大，現(xiàn)在它已成為微加工技術(shù)的代表
，廣泛
應(yīng)用于MEMS、物理性能研究和生物技術(shù)等領(lǐng)域。
另一方面，
不僅，即使是現(xiàn)有的亞微米圖案曝光設(shè)備
，其尺寸也很大，設(shè)備價(jià)格也高達(dá)數(shù)千萬至數(shù)億日元。對介紹的要求非常高，比如環(huán)境、配套設(shè)備、對使用者的技術(shù)水平要求很高。對于對微細(xì)加工感興趣但附近沒有基礎(chǔ)設(shè)施的研究人員和工程師來說，這個(gè)障礙足以讓他們放棄開發(fā)主題。
“無掩模曝光裝置PALET”具有可在任何地方安裝的尺寸、打破無掩模曝光裝置傳統(tǒng)觀念的價(jià)格、以及可在現(xiàn)場創(chuàng)建任何圖案的簡單操作性。從用戶角度消除障礙的產(chǎn)品規(guī)格非常適合需要反復(fù)試驗(yàn)的研究和原型設(shè)計(jì)應(yīng)用。
通過這個(gè)無掩模曝光系統(tǒng)PALET，我們希望使光刻技術(shù)變得更容易實(shí)現(xiàn)并幫助加速各種研究。