無掩模曝光設備PALET
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產(chǎn)品特點
特征
硬件
顛覆行業(yè)常識的低價設定
“無掩模曝光設備很方便，但要花費數(shù)千萬日元，所以還是放棄吧?！睘榱?/font>
打破常識，我們大膽縮小了功能范圍，實現(xiàn)了壓倒性的性價比。此外，該系列還包括手動載物臺模型，這對于無掩模曝光系統(tǒng)來說是不常見的。
您可以通過減少初始投資來準備研究環(huán)境（*3）。
最大曝光面積為25mm（*4），最小曝光線寬為3μm，讓您可以選擇您的研究區(qū)域，高自由度和低安裝成本將有力協(xié)助您的研發(fā)。
*3可以從手動載物臺型號升級為電動載物臺型號。
*4對于需要更大曝光范圍的客戶，我們提供“100大舞臺模型”。
易于使用的設備規(guī)格
“我們不能讓學生或外人使用我們的重要設備！”有時
我們會看到校園設備因為這樣的原因而沒有被經(jīng)常使用。重要的裝備如果變成了寶藏那就太浪費了。PALET 是一種用戶友好的設備，不需要硬件或軟件方面的技術技能。
大多數(shù)人在幾個小時的設備演示中學會了基本操作，而且我們聽說它很容易使用。
請隨意嘗試光刻技術。
無需安裝空間的桌面型
“實驗室很小，沒有地方放置曝光設備?！?/font>
為了回應這樣的聲音，我們以“桌面光刻”為關鍵詞，徹底縮小了設備尺寸，實現(xiàn)了A3大小的安裝面積（*1） 。當然，不需要額外的曝光設備，例如掩模對準器。此外，通過采用浮動結(jié)構，抑制振動，無需隔振臺，并提供內(nèi)置氣源進行真空抽吸。壓縮空氣等在安裝過程中容易成為障礙的公用設施已被拆除。您只需準備一張桌子和一個 100V 電源（*2）。
*1還包括一臺筆記本電腦。此外，電動舞臺型號還配有舞臺驅(qū)動器。
*2請準備顯影環(huán)境和避光環(huán)境。
專為 PALET 設計的 2 倍物鏡
精細結(jié)構和微通道的厚膜曝光需要具有深焦深的物鏡。PALET專用2倍物鏡實現(xiàn)了數(shù)百微米的厚膜曝光(*5)。以前需要使用掩模對準器的厚膜抗蝕劑現(xiàn)在可以在沒有掩模的情況下進行曝光。
*5取決于所使用的抗蝕劑。