無掩模曝光系統(tǒng)PALET
? 半導(dǎo)體曾被稱為“工業(yè)之米”。光刻技術(shù)是半導(dǎo)體工藝 設(shè)備開發(fā) 立體形狀 材料性能評價 生物技術(shù) 流體解析 學(xué)生實驗讓光刻技術(shù)離您更近！
的基礎(chǔ)技術(shù)。需要光刻技術(shù)
的領(lǐng)域隨著時代的發(fā)展而不斷擴(kuò)大，現(xiàn)在
它已成為微加工技術(shù)的代表，廣泛應(yīng)用于MEMS、物理性能研究和生物技術(shù)等領(lǐng)域。
另一方面，
不僅，即使是現(xiàn)有的亞微米圖案曝光
設(shè)備，其設(shè)備尺寸也很大，設(shè)備價格也達(dá)到數(shù)千萬至數(shù)億日元，事實上，引進(jìn)的障礙對環(huán)境、附帶設(shè)備、對使用者的技術(shù)水平要求極高。對于那些說“我對微加工感興趣，但附近沒有基礎(chǔ)設(shè)施”的研究人員和工程師來說，這個高障礙足以放棄開發(fā)主題。
“無掩模曝光系統(tǒng)PALET”實現(xiàn)了可以在任何地方安裝的設(shè)備尺寸、打破無掩模曝光系統(tǒng)常識的價格設(shè)定，以及允許您創(chuàng)建當(dāng)場想到的圖案的簡單操作性。從用戶角度消除障礙的產(chǎn)品規(guī)格非常適合需要反復(fù)試驗的研究和原型設(shè)計應(yīng)用程序。
通過這個“無掩模曝光系統(tǒng)PALET”，我們希望讓光刻技術(shù)變得更加熟悉，并有助于加速各種研究。使用領(lǐng)域
領(lǐng)域
MEMS
生命科學(xué)
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