“無(wú)掩模曝光設(shè)備雖然方便，但要花費(fèi)數(shù)千萬(wàn)日元，所以還是放棄吧

?！?/font>此外，該系列還包括手動(dòng)載物臺(tái)模型，這對(duì)于無(wú)掩模曝光系統(tǒng)來(lái)說(shuō)是不常見(jiàn)的。
您可以以較低的初始投資建立研究環(huán)境（*3）。

最大曝光面積為25毫米（*4），最小曝光線寬為3μm，您可以選擇您的研究區(qū)域，但高自由度和低安裝成本將有力地協(xié)助您的研發(fā)。