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步進機用于光刻工藝中使用掩模的曝光處理,特別是在半導體和液晶的制造中。
步進法包括步進重復法和掃描儀,步進重復法對晶圓進行逐步曝光,因為一次可以轉(zhuǎn)移的面積較小,掃描儀以與曝光速度相對應的速度同步掃描掩模版和晶圓。投影放大倍率。后者有時被視為掃描儀,以區(qū)別于步進機。
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