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步進機的用途

步進機用于光刻工藝中使用掩模的曝光處理，特別是在半導體和液晶的制造中。

步進法包括步進重復法和掃描儀，步進重復法對晶圓進行逐步曝光，因為一次可以轉(zhuǎn)移的面積較小，掃描儀以與曝光速度相對應的速度同步掃描掩模版和晶圓。投影放大倍率。后者有時被視為掃描儀，以區(qū)別于步進機。