?步進(jìn)曝光機(jī)是一種用于光刻（半導(dǎo)體和液晶制造工藝）的投射曝光設(shè)備。

隨著IC電路圖案的小型化，制作全尺寸光掩模圖案變得困難，這意味著在對(duì)大于實(shí)際尺寸的掩模圖案進(jìn)行縮小投影曝光時(shí)進(jìn)行分步重復(fù)曝光的曝光設(shè)備。在分步重復(fù)法中，當(dāng)對(duì)半導(dǎo)體晶片或液晶基板進(jìn)行曝光時(shí)，曝光區(qū)域被分成幾個(gè)部分，一旦一個(gè)部分被曝光，就移動(dòng)下一個(gè)部分(步進(jìn))，并重復(fù)曝光。指（重復(fù)）。

步進(jìn)機(jī)是一種曝光設(shè)備，它在步進(jìn)和重復(fù)的同時(shí)對(duì)整個(gè)待曝光區(qū)域進(jìn)行曝光。