曝光設(shè)備的應(yīng)用
?曝光工具主要用于半導(dǎo)體和平板顯示器（FPD）（包括 LCD）的制造。
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在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，以硅晶片作為基板，在其上形成氧化膜或其他層后，涂上光刻膠（感光材料）。然后，曝光裝置發(fā)出的強(qiáng)紫外線通過(guò)光掩模照射到涂層表面，從而可以通過(guò)蝕刻或其他方法去除不需要的區(qū)域。這種使用曝光工具的方法稱為光刻。
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在LCD制造過(guò)程中，通常使用玻璃基板，并重復(fù)進(jìn)行金屬和其他薄膜沉積、光刻和蝕刻等多個(gè)循環(huán)。
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可以在一個(gè)基板上形成像素電極和開(kāi)關(guān)元件（例如TFT元件），并且可以在另一基板上形成具有光的三原色（紅、綠、藍(lán)）的彩色濾光片。液晶面板是通過(guò)將兩塊基板粘合在一起并在其間放置液晶材料而完成的。
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在選擇曝光工具時(shí)，由于曝光工具價(jià)格昂貴，因此需要與設(shè)備制造商充分討論曝光所用的光源類型、曝光精度、平臺(tái)的精度等，然后再購(gòu)買。