曝光設(shè)備的使用
?曝光設(shè)備主要用于半導(dǎo)體制造地點(diǎn)和平板顯示器（FPDS）制造地點(diǎn)，包括液晶顯示器。
在半導(dǎo)體制造過程的情況下，使用硅晶片作為底物形成氧化物膜，然后使用光致抗光（光敏感材料），并用曝光裝置從曝光裝置發(fā)出的強(qiáng)紫外光照射涂層表面。這允許通過蝕刻或其他方式去除不必要的部分。這種使用曝光裝置的方法稱為光刻。
在液晶顯示器的制造過程中，通常使用玻璃基板，重復(fù)重復(fù)沉積薄膜（例如金屬）的薄膜，并重復(fù)蝕刻。
一種底物可用于形成帶有像素電極和開關(guān)元件（例如TFT元素）的彩色濾波器，另一種基材可用于形成帶有三種原色（紅色，綠色和藍(lán)色）的彩色濾鏡。通過將兩個(gè)板粘貼在一起并在它們之間放置液晶材料，可以完成LCD顯示屏的面板。
在選擇曝光設(shè)備時(shí)，它非常昂貴，因此有必要在與設(shè)備制造商進(jìn)行徹底咨詢有關(guān)曝光，準(zhǔn)確性和舞臺(tái)精確度的光的類型后進(jìn)行全面咨詢。