?半導(dǎo)體曝光設(shè)備是半導(dǎo)體制造過(guò)程中用于在硅片上繪制電路圖案的設(shè)備。強(qiáng)大的紫外光透過(guò)光掩模，作為電路圖案的原型，電路圖案被轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的硅晶片上。近年來(lái)，一些設(shè)備使用波長(zhǎng)為13 nm（稱為EUV）的激光來(lái)微型化精細(xì)電路圖案。由于定位等要求極高的精度，因此設(shè)備價(jià)格昂貴。