什么是半導(dǎo)體曝光設(shè)備？
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什么是半導(dǎo)體曝光設(shè)備？
半導(dǎo)體曝光設(shè)備是半導(dǎo)體制造過(guò)程中在硅片上繪制電路圖案的設(shè)備。強(qiáng)紫外光透過(guò)光掩模，該光掩模是電路圖案的原型，電路圖案被轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的硅片上。近年來(lái)，還有一種使用稱為EUV的波長(zhǎng)為13納米的激光來(lái)使精細(xì)電路圖案微型化的裝置。由于定位精度要求非常高，設(shè)備價(jià)格昂貴。