無(wú)掩模曝光系統(tǒng) PALET 大載物臺(tái)型號(hào) DDB-701-DL4
?
關(guān)于本產(chǎn)品
■讓光刻變得更容易
半導(dǎo)體曾被稱(chēng)為“工業(yè)之米”。支持半導(dǎo)體工藝的技術(shù)是“光刻”。隨著時(shí)間的推移，需要光刻技術(shù)的領(lǐng)域不斷擴(kuò)大，現(xiàn)在它已成為微加工技術(shù)的代表，廣泛應(yīng)用于MEMS、物理性能研究和生物技術(shù)等領(lǐng)域。 另一方面，不僅是達(dá)到幾納米的半導(dǎo)體光刻設(shè)備，即使是曝光亞微米圖案的現(xiàn)有設(shè)備也存在設(shè)備尺寸龐大、設(shè)備價(jià)格在數(shù)千萬(wàn)至數(shù)億日元以及環(huán)境問(wèn)題等問(wèn)題?，F(xiàn)實(shí)情況是，引進(jìn)的門(mén)檻非常高，比如設(shè)備、配套設(shè)備、對(duì)用戶(hù)熟練程度的要求等。對(duì)于對(duì)微細(xì)加工感興趣但附近沒(méi)有基礎(chǔ)設(shè)施的研究人員和工程師來(lái)說(shuō)，這個(gè)障礙足以讓他們放棄開(kāi)發(fā)主題。 “無(wú)掩模曝光系統(tǒng)PALET”具有可在任何地方安裝的尺寸、打破無(wú)掩模曝光設(shè)備傳統(tǒng)觀念的價(jià)格、以及可在現(xiàn)場(chǎng)創(chuàng)建任何圖案的簡(jiǎn)單操作性。從用戶(hù)角度消除障礙的產(chǎn)品規(guī)格非常適合需要反復(fù)試驗(yàn)的研究和原型設(shè)計(jì)應(yīng)用。 通過(guò)這個(gè)無(wú)掩模曝光系統(tǒng)PALET，我們希望使光刻技術(shù)變得更容易實(shí)現(xiàn)并幫助加速各種研究。■顛覆行業(yè)常識(shí)的低價(jià)設(shè)定
“無(wú)掩模曝光設(shè)備很方便，但要花費(fèi)數(shù)千萬(wàn)日元，所以我們放棄引入它。”為了打破常識(shí)，我們大膽地縮小了功能，并實(shí)現(xiàn)了壓倒性的性?xún)r(jià)比。此外，我們的無(wú)掩模曝光設(shè)備實(shí)現(xiàn)了前所未有的性?xún)r(jià)比，其中包括手動(dòng)載物臺(tái)型號(hào)。您可以通過(guò)減少初始投資來(lái)準(zhǔn)備研究環(huán)境。 最大曝光面積25mm，最小曝光線(xiàn)寬3μm，您可以選擇您的研究區(qū)域，我們的高自由度和低安裝成本將有力協(xié)助您的研發(fā)。
