光學(xué)外差微振動測量裝置
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光學(xué)外差微振動測量裝置
概述/規(guī)格
一種利用激光多普勒效應(yīng)
測量微小振動的頻率和振幅的裝置。
響應(yīng)頻率
1~200MHz
最大測定速度
5m/秒
測量光斑
直徑
約φ10μm
一種利用激光多普勒效應(yīng)
測量微小振動的頻率和振幅的裝置。
響應(yīng)頻率 | 1~200MHz |
---|---|
最大測定速度 | 5m/秒 |
測量光斑 直徑 |
約φ10μm |
特長/用途
高剛性外殼即使在桌面上也能精確測量 200MHz 振動
能夠測量垂直(面外)振動和橫向(面內(nèi))振動
易于操作的顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)和直觀的信號輸出
可通過軟件進(jìn)行振動分析、動畫等(可選)
MEMS器件、晶體諧振器、SAW器件等的振動分析
高剛性外殼即使在桌面上也能精確測量 200MHz 振動
能夠測量垂直(面外)振動和橫向(面內(nèi))振動
易于操作的顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)和直觀的信號輸出
可通過軟件進(jìn)行振動分析、動畫等(可選)
MEMS器件、晶體諧振器、SAW器件等的振動分析